一、概述

　　1、原理

　　依據陽極層線性封閉漂移理論，氣體在離子中的陰陽極之間通過，其陽極的正電壓與加在內外陰極端部間的強磁場相互作用，產生等離子體，來自于等離子體中的離子受陽極電場的驅動，由離子源中產生噴出的離子束流。

　　2、用途

　　可作為基片表面的清潔離子清洗源。

　　可在柔性基片上直接鍍DLC和光學膜、氧化物、氮化物等作為磁控濺射過程中的離子輔助沉積。

　　3、特性

　　低氣壓、低電壓、高束流。陽極膜離子源產生的低能量、大束流的離子束可以有效去除基片表面的有機污染物和氧化層，增加薄膜的附著力，同時避免對基片轟擊時造成損傷(如平板顯示器鍍膜、柔性基材鍍膜)。

　　無燈絲、柵極及中和柵、可長時間穩定運行和生產。非常高的平均無故障時間和極地的維護成本。由于陽極膜離子源無需燈絲，空心陰極等電子中和器而且水冷完全，所有其對鍍膜環境的溫度改變很小。這個特性對溫度敏感基片的鍍膜非常有利。同樣道理，沒有電子中和器使其可以長時間免維護工作。

　　可適應各種反應氣體和惰性氣體。陽極膜離子源的機構和材料組成使得其完全適應絕大部分反應氣體，如氮氣、氧氣和甲烷等。

　　離子源長度可根據用戶需要制造。

　　二、性能指標

　　三、工作原理

　　陽極膜離子源是一種具有閉合電子遷移和發射溝道的冷陰極離子源，其主要組成部分包括磁路、陰極、陽極、布氣機構和驅動電源等部分。其中離子發射溝道和陽極被磁路所包圍。放電溝道內具有很強的磁場，將電子約束在其中，在正交的電場和磁場的作用下，電子在溝道內進行閉環遷移并形成電子流。閉環遷移的電子與氣體發生碰撞時，氣體電離為離子和電子。當直流正電位施加在陽極上時，陽極表面形成電場，在此電場作用下，離子被加速發射出放電溝道形成離子束，離子束對基片進行轟擊或蝕刻。

　　四、基本結構

　　本離子源采用緊湊模塊化設計，可以在改變可靠性和基礎特性參數的情況下與現有設備進行有效匹配，極大限度地改善鍍膜效果和提高功效。

　　本離子源包括以下主要部分：

　　表面外陰極、表面內陰極、磁鐵、磁路(離子源殼體)、陽極、布氣機構、驅動電源等。五、安裝及操作

　　5.1 開箱驗貨

　　打開包裝，按裝箱單檢查貨品是否齊全;

　　5.2機械安裝

　　用戶可根據具體需要制造響應的支架，利用離子源表面四個角上的預留M6螺紋孔，將離子源安裝在所需位置。此工作也可委托本公司代為設計加工。

　　5.3真空檢漏

　　離子源在發貨前均進行了真空檢漏，離子源在鍍膜機或其他系統上安裝完畢后還應該進行真空檢漏，以確保接口法蘭與系統良好密封。最簡單的方法是將離子源的進氣管封閉，進行真空試抽。觀察系統的本地真空度，如無明顯降低表示離子源機械安裝正確。如發現明顯降低可以用真空檢漏儀檢漏或與本公司聯系。

　　5.4氣體連接

　　將質量流量計(或其他氣體流量控制設備)的輸出端與離子源的氣體輸入端相連接即可。離子源的氣體接入管為黃色氣管。在離子源安裝完畢后，應首先關閉氣源觀察供氣管道，進行真空試抽以確認整個供氣管道密封良好。

　　5.5電源安裝

　　按照離子源電源原理圖，將驅動電源的正極與離子源的陽極相接，驅動電源的負極與離子源的外殼相接(即真空室的外殼)，負極應與地線相接。由于離子源的驅動電壓較高(1500V)，使用的鏈接導線及接線端子的結構必須保證其耐壓超過5000V，同時保證較大的絕緣間隙，防止潮濕環境下出現爬電飛弧。

　　5.6冷卻水連接

　　離子源的冷卻水管共四根，藍色兩根和橙色兩根，其分別為陽極和陰極的冷卻水進出口。其中藍色兩根管子一組，冷卻水一進一出，橙色兩根管子為一組，冷卻水一進一出。進出水不需要區分方向，即用戶自定義相同顏色的任意一根水管為進水，另一根為出水。背板冷卻水，根據實際要求

　　注意：在離子源使用前必須確認水冷管道水流暢通，壓差滿足要求。

　　六、離子源開啟

　　1)打開冷卻水

　　2)將真空室抽至本地壓強

　　3)供給工作氣體或反應氣體，是真空室達到預定真空度

　　4)打開離子源驅動電源上電空氣開關(電源箱背部)

　　5)打開離子源電源的總開關(面板)

　　6)將電流調節旋鈕放置最小，占空比旋鈕調至中間部位

　　7)打開離子源工作開關，逐漸增加放電電流，離子源將起輝

　　8)將離子源的工作電流設定至所需數值，離子源可長期穩定工作

　　9)當結束工藝工程，按下離子源關閉按鈕，離子源結束工作

　　10)在整個系統結束工作后，關閉離子源電源面板開關和上電空開

　　11)調整工作狀態

　　本離子源具有兩種放電模式，第一種為聚焦放電模式，其特點為放電時出現明細的離子束，此時放電電壓高，放電電流小。第二種為散焦放電模式，其特點為放電時等離子體發散至很大空間，未出現明細的離子束。

　　12)電源控制模式：恒流控制模式，即放電電流恒定，放電電壓隨其它參數變化而變化。

　　13)電源的占空比主要目的是調節離子源的工作狀態，抑制離子源光放電對薄膜或基體的損傷。占空比增加，在相同條件下離子源達到的最大放電電流增加，弧光放電的抑制作用減小;反之，最大放電電流減小，弧光放電抑制作用增強。

　　14)離子源的放電電流與下列因素有關

　　其它工作狀態相同時，放電電壓越高，放電電流越大。

　　氣體流量或真空度，氣體流量越大，放電電流越大。

　　氣體種類，氣體電離能越低，放電電流越大。

　　七、維護

　　當離子源用于清洗、表面改性和其他類似情況下，而不是在鍍膜環境中，離子源可以在連續工作幾百甚至上千小時，但在鍍膜環境下，日常的清理對保證離子源的正常工作是必須的。具體的檢查和維護方法如下：

　　用棉布沿同一方向不抬起地擦拭離子源的放電溝道一周，在停止處觀察是否有碎屑存在，如果有可以先用棉布擦拭清除即可。

　　如果碎屑是導磁的，棉布很難將其清除，此時可以先用普通透明粘帶將碎屑粘出，再用無水乙醇將該處反復擦拭，去除粘帶所殘留的有機物。

　　用搖表檢查陽極與陰極間的電阻大于1MΩ。

　　因離子源內部安置很強的磁體，離子源拆卸時存在嚴重的安全問題，所有強烈建議用戶不要擅自拆卸離子源。

　　注意：本離子源將在高壓大電流下工作，操作者不可在離子源電源未關閉總電源時，進行任何清洗或其他維護工作。

　　本離子源電源儲能較大，在關閉電源1小時后或利用導線將陽極與地進行短路放電后，方可進行清洗或其他維護工作。